技术白皮书
2020
Presented at ICMTS 2020
FormFactor Choon Beng Sia 博士和来自新加坡GLOBALFOUNDRIES的合著者在第33次 IEEE微电子测试结构国际大会上出版了一份关于硅光子晶圆生产测试的技术白皮书,书中演示了光晶圆测试入射角优化以及关于一套稳定可靠的全自动SIPH晶圆测试架构的评估。
2019
最佳总体演示-SWTEST Asia 2019
FormFactor的Takao Saeki在他的论文中发布了Takumi CL,这是一种适用于低漏电和小尺寸pad的新型适用的MEMS探针卡。 Takumi CL具有新的2D MEMS探针设计,在产品的整个使用寿命中均具有一致的小针痕,并具有成本低廉和制造周期短的优点。
在本文中,我们将讨论汽车IC增长的整体行业趋势和技术趋势,晶圆测试的挑战以及FromFactor的解决方案,以实现在-40C至160C的汽车微控制器器件上进行大于等于128 DUT的大规模并行测试。我们还将分享关于探针台之间的偏差和热变形,高数量探针针卡的AOT与POT差异以及关于低针压MEMS探针在晶圆pad上测试的大量工程特性结论,以实现零缺陷IC晶片测试要求。
本文介绍了一种用于S参数校准的探针功率校准可显著提高直流偏压精度,S参数测量精度和高达110 GHz的校准后稳定性的新方法。
FormFactor CMO, Amy Leong回答了Chip Scale Review的提问,她对于伴随汽车芯片产品晶圆测试中零损耗要求的挑战提供了深刻见解。
Presented at ICMTS 2019
将各种半导体加工技术的不同功能嵌入单个系统的强烈市场需求持续推动着3DIC需求,特别是减小微凸块尺寸以实现多裸晶堆叠。探针卡和单DC探针无法提供微凸块晶圆验收测试所需的测量灵活性,也无法解决相关难题。在本文中,具有θ-X平坦化能力的定制DC探针座和真正的开尔文探针成功显示出一致且可再现的全自动微凸块晶圆验收测试结果。
随着芯片设计者被迫不断提高数据速率,使用红外光子信号作为数据传输介质的波分复用(WDM)越来越多地进入基于CMOS硅的产品;该被称为“硅光子学”(SiPh)的技术不仅用于取代传统的电气互连,还广泛地应用于激光雷达,量子计算和生物传感等。
开发5G技术的公司正在竞相开发第一批芯片组,以致设定部署标准并成为领导者。虽然5G的初始标准是在2017年底设定的,但仍然不清楚如何将有些关于5G应用的想法组合在一起。本文探讨了5G产品测试方法的挑战和变化,并展示了与英特尔合作的成果。
最佳整体演示 - SWTEST 2019
新的射频产品(5G和高速数字组件)的开发正在改变射频探测的前景。多年来,在手机和WiFi频率以外的RF探测一直是一个小领域,它仅需要很少的线路且不会与大批量生产(HVM)的需求相冲突。
最鼓舞人心的演讲 - SWTEST 2019
世界各地的数据中心目前消耗着地球总功率的7%。全球范围内正在建设超大规模数据中心以满足对云计算不断增长的需求并支持诸如人工智能,基因组学革命和数据分析之类的新兴应用,分析人士预测到2030年数据中心的能耗将占到全球总电能的30%。
自然界最佳演讲教程 - SWTEST 2019
随着探针卡PCB的复杂性和净数量的增加,通过电源/通道分配可以实现高密度PCB的生产,大多数的客户并没有足够的重视。使这个问题更加复杂的是,测试仪制造商在其测试仪上创建了非最佳通道分配限制,这进一步使实现更高的并行度测试的能力复杂化。
在2017年的SWTest研讨会上,高通公司和FormFactor推出了新型的混合MEMS探针技术,该技术适用于先进的测试应用。混合MEMS探针技术允许在单个探针头设计中使用多种探针设计,并且针对特定要求优化了每种探针设计,利用多层复合MEMS制作工艺的新型技术实现混合探针设计,该技术能够满足不同pad种类之间差别化的测试需求如细小间距和高载流能力的测试来实现最佳晶圆测试性能。
随着DRAM工艺节点转换为1X,1Y和1Z,管芯收缩驱使着每片晶圆上的管芯数到2000及以上水平。晶圆测试不可避免地使用单个Touchdown的探针卡,并且可以使用测试仪资源增强功能来实现,而无需花费过多的资本支出来升级现有的测试仪。
5G网络的推出尚处于起步阶段,但对5G产品的需求已经出现。这些产品将用于电话之类的消费产品中,但它们也将被集成到我们周围的新基础架构中,因此其体量将很大。与任何大批量IC一样,晶圆级的全面多站点测试提供了最低的测试成本,但是5G产品在批量生产中遇到了前所未有的挑战。在数十个GHz范围内满足许多信号测试的要求就真的很重要。
展示一种用于光子器件晶圆级测试的全自动系统。该测试系统已用于光学过程控制监视器(PCM)的特性表征,以支持硅光子技术平台的持续开发。
FormFactor Inc.提供探针,阻抗标准校准片和校准软件,使我们的客户能够为其晶片上的设备获得最佳的测量结果。矢量网络分析仪校准是该过程中的重要一步。此MicroApp演示将介绍使用FormFactor的WinCal软件评估VNA校准准确性的最佳方法。
此MicroApps研讨会介绍了S参数测量(高达110 GHz)的结果,该结果结合了用于晶片级测量的探针功率校准。这项新的仪器技术可确保将准确且一致的RF源功率施加到有源设备上,延长系统的校准后稳定性,最小化测量不连续性,同时最大化110 GHz晶圆级测量系统的测量能力。以-20 dBm的探头尖端源功率进行演示,与10分钟相比,已将系统的校准后稳定性提高了4小时以上,这使微波工程师有更多时间在一次校准中测试其mmW器件。
2018
在本文中,FormFactor的Alan Liao关注了SoC芯片封装趋势以及其对CuPillar封装的推动。
演讲内容包括小间距CuPillar HVM探测的测试挑战,以及对用于小间距CuPillar HVM测试的MEMS探针技术的需求。
FormFactor首席营销官Amy Leong在Semicon West 2018上作了题为“汽车IC晶圆测试的生产力创新”的演讲。该演讲概述了汽车IC生产中的趋势和挑战,并描述了FormFactor产品有助于提高从实验室到量产测试生产率的各种方式。演示包括两个案例研究:1)关于LIDAR晶圆测试,以及2)关于在生产环境中进行汽车微控制器探测。
2017
射频校准基板寿命和mW精度生产测试单元的评估 | Bock
包含芯片级处理器的单一HBM2的堆叠验证 | Armstrong, Kiyokawa, Nhin
Katana RFx: 测试TI高速RF应用的新技术 | Mair
用以提高自动化集成电路测试产量的V93000 Direct-Probe™ 高并行探针卡 | Heitzer, Chen, Effenberg, Hirschmann, Zuendorf, Liao, Phipps
2016
运用于新兴汽车电子应用的先进测试技术 | Stillman, Leong, Bhardwaj
先进封装的垂直MEMS测试技术 | Leong
直接探测微凸块的方法验证HBM(高带宽存储器) | Loranger, Moon
2015
以灵活的MEMS技术降低多site焊线应用测试的成本 | Stillman, Eldridge
高性能HBM堆栈测试 | Loranger, Oonk
确定探针的最大允许电流 | Cassier, Folwarski, Kister, Leong
“最佳演讲”获奖者
最小化参数探针卡寄生电容 | Soler, Levy
2014
用于智能产品铜柱Cu Pillar技术的可靠性测试 | Bezuk, Cassier, Leong, Miller, Slessor, Syed, Zhao
1,000V高压参数测试技术的成本效益 | Andoh, Ishibiki, Kawamata, Funatoko
适用于倒封装产品锡球测试的先进低针压探针卡 | Stillman, Hughes
批量生产中铜柱Cu Pillar测试的主要考量因素 | Wittig, Leong, Nguyen, Masi, Kister, Slessor
“最佳整体表现”的获奖者
测试仪和探针卡能跟上图像传感器的速度要求吗? | Levy, Kawamata, Hamajima
国际半导体技术发展路线图 | Armstrong, Feldman, Loranger
2013
使用测试仪资源分享技术提高晶圆测试中的并行测试和测试覆盖率 | Huebner
pad和凸点划痕余量分析/预判的方法 | Watson
细小间距铜柱Cu pillar的探查研究 | Leong, Wittig, Nguyen, Hulic, Slessor
先进SOC晶圆测试的发展趋势,挑战以及解决方案 | Slessor, Kister, Eldridge, Nguyen, Leong
当探针台测试路径并非最佳时的第二方案(一种Touchdown优化方法的学习) | Wegleitner, Berry
2012
参数测试是否即将进入一个成长和创新时期? | Levy
28nm移动产品 SoC 铜柱Cu pillar测试研究 | Horas, Leong, Hulic
TD 效率的改变 —— 当探针台测试路径并非最佳时 | Breinlinger
先进探针卡的AOT和POT的比较研究 | Berry, Breinlinger, Rincon
2011
热门话题:载流能力、探针针尖烧融和电弧放电 | Huebner
IEEE 半导体晶圆测试专题研讨会,一种面向预凸点和 eWLP 应用的灵活垂直 MEMS 探针卡技术 | Slessor & Marshall
IEEE 半导体晶圆测试专题研讨会,针对 SnAg 和铜凸点的新型测试技术的评估 | Wittig, Leong, Hulic
IEEE 半导体晶圆测试专题研讨会,旨在最大限度提高探针载流能力的关键设计参数 |Kister
“最佳论文教程”获奖者
晶圆探针:半导体测试中8个电流负载能力参数 |Kister
2010
采用MEMS多site测试能力的倒封装芯片晶圆测试的优势 | Tick, Pierra
解决全晶圆接触器的操作难题 | Breinlinger
扩大晶圆测试时的测试覆盖率以降低总体生产成本 | Levy
用于 Advanced TRE™ 的高速控制总线 | Huebner
“最佳论文教程”获奖者
2009
通过 Advanced TRE(测试仪资源优化处理)实现的 DRAM 最高并行测试 | Huebner
使用一种新方法来稳定探针卡的温度进而改善划痕表现并缩短预热时间 | Harker, Lin, Pearce
MicroProbe Vx-RF 探针卡技术 | Slessor, Kister, Degan, Nagler, Nouri
IEEE 半导体晶圆测试专题研讨会,MicroProbe Vx-RF 探针卡技术 |Nagler, Degen, Nouri, Kister & Slessor
2008
MicroProbe Vx-MP 探针卡技术 | Kister, Hopkins
(装有40000 根探针的300mm 探针卡—— DRAM 测试向一次 Touchdown又迈进了一步 | Huebner
IEEE 半导体晶圆测试专题研讨会,MicroProbe Vx-MP 探针卡技术 | Kister & Hopkins
2007
接触电阻 —— 探针卡性能中的关键参数 | Kister, Hopkins
获奖者-最佳数据呈现
对已知良好的晶圆测试的划痕分析 | Wang, Martens, Wijeyesekera, Matsubayashi, Napier, Leonglow-k
low-k晶圆测试过程中用于降低pad划伤风险的关键方法 | Romreill, Leong
探针卡针数的新记录 | Huebner, Hatsumori, Pritzkau, Kawamata, Matsuo
IEEE 半导体晶圆测试专题研讨会,接触电阻 —— 探针卡性能中的关键参数| Kister & Hopkins
2006
一次Touchdown的 300mm 晶圆测试 | Wijeyesekera, Shinde
2005
DDR2 DRAM 高频晶圆测试 (HFTAP) | Ozawa, Funatoko
2004
成本高效的高频和高产出晶圆测试的解决方案 | Ozawa, Minamihashimoto, Sagamihara
MicroSpring® 触点设计参数的优化应用于低针压测试 | Martens, Levy